این مقاله انگلیسی ISI در نشریه ساینس دایرکت (الزویر) در 8 صفحه در سال 2018 منتشر شده و ترجمه آن 16 صفحه میباشد. کیفیت ترجمه این مقاله ویژه – طلایی ⭐️⭐️⭐️ بوده و به صورت کامل ترجمه شده است.

مشخصات مقاله انگلیسی (PDF)
سال انتشار	2018
تعداد صفحات مقاله انگلیسی	8 صفحه با فرمت pdf
نوع مقاله	ISI
نوع نگارش	مقاله پژوهشی (Research Article)
نوع ارائه مقاله	ژورنال
رشته های مرتبط با این مقاله	فیزیک
گرایش های مرتبط با این مقاله	مهندسی اپتیک و لیزر، مهندسی پلاسما و ذرات بنیادی
چاپ شده در مجله (ژورنال)	ارتباطات اپتیک – Optics Communications
ارائه شده از دانشگاه	کالج فیزیک و الکترونیک، دانشگاه شانشی، چین
کلمات کلیدی	گرافن، شفافیت ناشی از پلاسما، سنسور شاخص شکست، شاخص شایستگی
کلمات کلیدی انگلیسی	Plasmon induced transparency, Graphene, Refractive index sensor, Figure of merit
نویسندگان	Di Wu, Jinping Tian, Lu Li, Rongcao Yang
نمایه (index)	Scopus – Master journals List – JCR
شناسه شاپا یا ISSN	ISSN 0030-4018
شناسه دیجیتال – doi	https://doi.org/10.1016/j.optcom.2017.11.072
ایمپکت فاکتور(IF) مجله	2.115 در سال 2018
شاخص H_index مجله	120 در سال 2019
شاخص SJR مجله	2.115 در سال 2018
شاخص Q یا Quartile (چارک)	Q2 در سال 2018
بیس	است ✓
مدل مفهومی	دارد ✓
پرسشنامه	ندارد ☓
متغیر	ندارد ☓
رفرنس	دارای رفرنس در داخل متن و انتهای مقاله ✓
کد محصول	8878
لینک مقاله در سایت مرجع	لینک این مقاله در نشریه Elsevier
نشریه الزویر

• فهرست مطالب:

چکیده

1.مقدمه

2.ساختار هندسی و مدل تئوری

3.شبیه سازی و توضیحات

خلاصه

• بخشی از ترجمه:

خلاصه

به طور خلاصه در این مقاله، یک ساختار جدید موجبر بر پایه گرافن تشکیل شده از یک موجبر باس که با یک استریپ رزونانس گرافن یه طور مستقیم و با یک رزوناتور حلقوی به طور غیر مستقیم کوپل شده ، ارائه شده است. اثر PIT اشاره شده، میتواند با تغییر پارامتر های مربوطه به دست آید. سنسور ضریب شکست با حساسیت 4160nm/RIU و FoM بالا ، محقق شد. ساختار موجبر ارئه شده و خواص بدست آمده آن میتواند در مدار های مجتمع نوری، خصوصا برای ساخت نانوحسگر ها، کلیدها، ادوات نور کند و مدولاتور ها موردد استفاده قرار بگیرد.

• بخشی از مقاله انگلیسی:

4. Conclusion

In conclusion, a new type of graphene-based waveguide structure composed of a bus waveguide side coupled with a graphene strip resonator directly and with a graphene ring resonator indirectly has been proposed in this paper. The so-called PIT effect can be achieved by controlling the relevant parameters. The refractive index sensor is realized with a sensitivity of 4160 nm/RIU as well as a higher value of figure of merit. The presented waveguide structure and the features obtained for it can be useful in optical integrated circuits, especially in the design of nano sensors, switches, slow light devices, and modulators.

دانلود رایگان مقاله انگلیسی

خرید ترجمه فارسی مقاله با فرمت ورد

نوشته دانلود ترجمه مقاله شفافیت و حسگری ضریب انکسار ناشی از پلاسمون در موجبر پلاسمونیک (ساینس دایرکت – الزویر 2018) (ترجمه ویژه – طلایی ⭐️⭐️⭐️) اولین بار در ترجمه فا پدیدار شد.

• بخشی از ترجمه:

چکیده
این تحقیق مشخصات حفاظ سازی یک پنجره موج بر تضعیف معمولی را برای EMP (تکانه الکترومغناطیسی) شبیه سازی می کند. در گذشته اغلب محققان در زمینه حفاظت الکترومغناطیسی عمدتا بر جفت کردن دریچه روی حفره مستطیلی تمرکز کرده اند. در مقابل، تمرکز این مقاله بر ان نیست بلکه بر مشخصات حفاظ سازی یک پنجره موجبر تضعیف معمولی برای EMP می باشد. تاثیر ان بر جفت شدگی EM و حفاظ سازی به دلیل نفوذ از طریق دریچه های پشت آن نیز مورد بررسی قرار می گیرد. در اینجا پالس نمایی دوبل معروف در شبیه سازی EMP فرودی به کار رفته است. روش موج تمام با ترکیب محدود برای قدرت میدان در نقاط مختلف در پشت پنجره موج بر میرا به کار گرفته شده است. به علاوه نفوگرام ها برای نشان دادن کل مشخصه حفاظ سازی به دست می آیند. در نهایت نتایج شبیه سازی با داده های آزمایشی تایید می گردند.
١.مقدمه:
حفاظ سازی یک مرحله اصلی در ساخت و بهبود سازگارپذیری الکترومغناطیسی دستگاه های فعال و غیرفعال است (١-٢). چند نوع دستگاه های حفاظتی در میدان حفاظ سازی الکترومغناطیسی وجود دارند. در بین آنها، پنجره موجبر میرا یکی از اجزای رایج در کاربردهای حفاظ سازی است (٣). مشاهده پذیری صفحه نمایش ها یا لامپ های وضعیت و ال ای دی ها مورد نیاز است ولی اغلب با وارد شدن یک ناپیوستگی در حفاظ و آسیب متعاقب در عملکرد آن همراه است. پنجره موجبر تضعیف یک راه موثر برای کاهش چنین تنزل عملکرد است و معمولا از طریق یک لایی روی کانتور آنها قرار داده می شود. گرچه دیگر تکنیک ها نیز وجود دارند مثل روش های مبتنی بر لحیم کردن یا جوشکاری.

• بخشی از مقاله انگلیسی:

Abstract

This work simulates the shielding characteristic of a typical decay waveguide window for EMP. In the past, most researchers on electromagnetic protection have mainly focused their attention on the aperture coupling on the rectangular cavity. In contrast, the focus of this paper is not on it, but rather on the shielding characteristic of a typical decay waveguide window for EMP. The effect on EM coupling and shielding due to penetration through apertures behind it is also investigated. Here, the popular double exponential pulse has been used in the simulation of incident EMP. Full wave method of finite integration has been employed for the field strength at different points behind the window decay waveguide window. In addition, field nephograms are obtained for showing the whole shielding characteristic. Finally, the simulated results are verified with test data 1 INTRODUCTION Shielding is a fundamental step in establishing or improving the electromagnetic compatibility of active and of passive devices [1-2]. There are many kinds of protection devices in the field of electromagnetic shielding. Among them, decay waveguide window is very common components in shielding applications [3]. The visibility of displays or status lamps and leds is needed but is often accompanied by the introduction of a discontinuity in the shield, with the consequent detriment of performance. Decay waveguide window is a effective way to reduce such performance degradation and are usually applied through a gasket on their contour, although other techniques are also available, such as those based on permanent soldering or welding. Nowadays, there are many papers on aperture coupling on the rectangular cavity [4]. However, little work has been done in aiming at the shield simulation on decay waveguide window.

دانلود رایگان مقاله انگلیسی

خرید ترجمه فارسی مقاله

نوشته دانلود مقاله ترجمه شده شبیه سازی استحفاظ یک پنجره موج بر – مجله IEEE اولین بار در ترجمه فا پدیدار شد.

بخشی از ترجمه:

چکیده
پراکنده سازهای چشمی شکل در موجبر کریستال فوتونی (PCW) به دو طریق اقتباس شده اند: (1) نور کند با باندهای پهن و شاخص گروهی ng   از 1. 14 تا 8. 32 را با تعویض ساده ردیف های اول و دوم سوراخ های هوای مجاور نقص خطی با پراکنده ساز چشمی شکل می توان تولید نمود و (2) نور کند با باندهای پهن ng   از 5. 36 تا 5. 287 از طریق جانشینی کلیه سوراخ های هوایی با پراکنده سازهای چشمی شکل ، حاصل می گردد. نتایج شبیه سازی بیشتر نشان می دهد که این روش با تعدیل پارامتر شبکه a و پارامتر e می تواندبه نور کندی با پراکندگی کم در ng بزرگ و ساختارهای پراکندگی نزدیک به صفر دست یابد ( e رابطه معکوسی با نسبت شعاع محور مینور x با محور ماژور b دارد).

 ۱ مقدمه

نور کند با سرعت گروهی کوچک Vg  نقش مفیدی در خطوط تاخیر نوری فشرده و بافرهای نوری ایفا می کند. با استفاده از شکاف باند فوتونی کریستال فوتونی، آن را نزدیک به لبه منطقه بریلوین  در موجبر کریستال فوتونی (PCW) می توان مشاهده نمود. نانوساختارهای فوتونی نیز در دمای اتاق نور کند رو تراشه ای تولید کرده و با مقیاس بندی درست پارامترهای کریستال فوتونی با اتلاف (تلفات) کم، به طول موج عملیاتی نور کند دست می یابند. دو نوع PCW برای نور کند وجود دارد: موج بر نقایص خطی و موجبر تشدیدگرکوپلی یا کوپل شده. متاسفانه، هر دو آنها با یک مشکل مواجه می شوند: سرعت گروهی پائین با پراکندگی سرعت گروهی بالا (GVD) همراه می باشد که اکثر محاسن و مزایای عملکرد در منطقه نور کند را جبران و عرض باند تخت را شدیداً کاهش می دهد.
با هدف نیل به نور کند با GDV پائین و باند پهن با شاخص گروهی بالا ng ، تحقیقات موفق زیادی انجام شده است. برای موجبرهای نقص خطی، این بهبودها عبارتنداز: کاهش عرض موجبر، تغییر پارامترهای PCW با جابجایی نقاط غیر متقاطع، استفاده از موجبرهای کریستال فوتونی مشبک (شکافدار)، تعدیل قطرهای سوراخ ها، معرفی موجبر سرعت گروهی ناهمسان ، تغییر و جابجایی ردیف های اول و دوم سوراخ های هوا یا تغییر و جابجایی شبکه در امتداد نقایص موجبر، نفوذ و تراوش میکروسیال به درون سوراخ های هوایی یا استفاده از تکنیکی مبتنی بر تراوش و نفوذ مایع انتخابی برای تغییر دقیق و برگشت پذیر ساختارها و … برای موجبر تشدیدگر کوپل شده، این بهبودها عبارتنداز: جیرجیرکردن (chirping) قطرهای سوراخ هوایی یا شعاع سوراخ ها در ردیف وسط وشعاع آنها در کنار موجبر، تغییرو جابجایی برش در امتداد رابط نقص برروی  فاصله یک دوره کریستال با استفاده از زنجیره کاواک های کوپل شده به صورت ضعیف، تغییر شعاع میله های نقص و موقعیت میله ها و میله های گم شده ، ادغام کاواک های کوپل شده جانبی در موجبر کریستال فوتونی و…برخی از تحقیقات موجود نیز دو نوع PCW را باهم مقایسه کرده و بدین طریق به سر عت گروهی پائین و پراکندگی کم می رسند، مثلاً اضافه کردن کاواک های متعدد با Q بالا یا یک نانوکاواک کوانتوم کوپل شده جانبی به موجبر کریستال فوتونی نقص خطی.
در میان مقالات فوق، مقالات آزمایشی اقلیت هستند، در حالیکه اکثر آنها تحقیق نظری بوده و تحمل قابل قبول ساخت را نادیده گرفته اند. پدیده دیگر آن است که اکثر این روشها بر تغییر آرایه های دوره ای پراکنده سازها تاکید کرده و پراکنده سازها معمولاً استوانه ای می باشند. فقط چند تحقیق، اشکال پراکنده سازها را تغییر دادند.

دانلود رایگان مقاله انگلیسی

خرید ترجمه فارسی مقاله با فرمت ورد

خرید نسخه پاورپوینت این مقاله جهت ارائه

نوشته دانلود ترجمه مقاله افزایش تاثیر نور کند در موجبر خروجی خطی کریستال فوتونی – مجله الزویر اولین بار در ترجمه فا پدیدار شد.

بخشی از ترجمه:

  ۱ مقدمه

پدیده نور کند در موج برهای کریستال فوتونی (PhC) به سرعت به یک الگوی لازم در فوتونیک خطی و غیر خطی تبدیل می شود. این پدیده امکان تحقق مدولاتورهای فشرده را فراهم آورده و کارایی و راندمان اثرات غیر خطی برروی طیف وسیع پهنای باند را به طور قابل توجهی افزایش می دهد. کلید این تابعیت و عاملیت ، توانایی مهندسی پراکندگی و نیل به شرایط باند تخت می باشد، به عبارتی باند پراکندگی که مشخصه مقطعی با سرعت گروهی ثابت و پائین می باشد. این تیپ رابطه پراکندگی به طور مثال، با تغییر اندازه و یا موقعیت سوراخ های مرزی در موج بر PhC خط یا با تغییر درست عرض موجبر حاصل می گردد.
در غیاب تلفات، عملکرد این نوع موج بر نور کند تخت باند به خاطر شاخص گروهی و پهنای باندش محدود شده است، مثلاً شاخص گروهی ng=30   ودلتای لاندا=۱۵   در لاندا=۱۵۵۰ . در این محدودیت ها، افزایش تاخیر یا بهبود غیر خطی ، نیازمند افزایش طول موجبر می باشد. متاسفانه، تلفات انتشار نیز به نسبت شاخص گروهی افزایش یافته و محدودیت نهایی برای افزایش نور کند(آهسته) محسوب می شوند که واقعاً می توان به آن دست یافت. به گونه ای مناسب، تکنیک مهندسی پراکندگی اطلاعاتی در مورد تلفات انتشار مطرح نموده و به مفهوم مهندسی تلفات تبدیل می شود. این روش قابلیت کاهش تلفات پراکندگی معکوس را داشته و تا کنون توانایی نشان دادن کاهش های قابل توجه تلفات برای شاخص های گروهی ng=37   را داشته ایم.

نتیجه گیری
در خاتمه، یک رابط تبدیل مد SFS توسعه و توضیح داده شده است که نقش موثر و کارآمدی در کاهش اتلاف ناشی از پراکندگی رخ داده در اثر خطاهای استیچ لیتوگرافی در موجبرهای PhC نور کند ایفا می کنند. این شیوه امکان ساخت موجبرهای نورکند با اتلاف کم برروی ابزارهای پرتو الکترونی با فیلد نوشتن محدود را فراهم ساخته و به همین خاطر برای بسیاری از محققینی که به ابزارهای گرانقیمت با فیلد نوشتن بزرگ دسترسی ندارند، مفید خواهد بود. در اینجا از شیوه SFS برای تشریح موجبرهای نورکند با شاخص گروهی ng=60 و با عملکردی منطبق با شبیه سازی استفاده کرده ایم.

بخشی از مقاله انگلیسی

1. Introduction

The phenomenon of slow light in photonic crystal(PhC) waveguides is rapidly turning into an essential paradigm in linear [1] and nonlinear [2–12] photonics; itenables the realisation of compact modulators [13,14]and substantially increases the efficiency of nonlinear effects [2] over a broad bandwidth range [3]. The key tothis functionality is the ability to engineer the dispersionand achieve the ‘‘flatband’’ condition, i.e. a dispersionband that features a section of low and constant groupvelocity. This type of dispersion relationship can be achieved, for example, by altering the size and/orposition of the boundary holes in a line defect PhCwaveguide or by a judicious alteration of the waveguidewidth [15–18].In the absence of loss, the performance of such aflatband slow light waveguide is limited by its groupindex and bandwidth, e.g. a group index of ng = 30 andDl = 15 nm at l = 1550 nm [18]. Within these constraints,increasing a given delay or nonlinear enhancementwould simply require increasing the length of thewaveguide. Unfortunately, propagation losses also increase with group index and provide the ultimatelimitation to the slow light enhancement that canrealistically be achieved. Opportunely, our dispersion engineering technique also provides a handle onpropagation loss, giving rise to the concept of ‘‘lossengineering’’; loss engineering affords the reduction of backscattering losses, and we have so far been able todemonstrate significant loss reductions up to groupindices of ng = 37 [19].How much further can his concept be pushed,however? Are we able to achieve slow light waveguideswith group indices of ng = 50 and beyond, and achievelow loss at the same time?In this paper, we demonstrate that group indices up tong = 60 can be achieved in practise, and furthermore, wedescribe a fabrication technique that allows us toachieve these results on a conventional electron-beam lithography system with a limited writefield. Thistechnique has the potential to get the similar results asthose achieved on more expensive electron-beammachines with larger writefields [19,20]. 2. Design and fabricationWe use electron-beam lithography on a convertedelectron microscope to fabricate the PhC waveguides.By carefully minimising imperfections such as sidewallroughness and lithographic inaccuracies, typical valuesof disorder are now on the order of 1 nm [21]. Theremaining limitation of the electron-beam writer is thelimited writing field of 100 mm. Waveguides thatexceed this length require the ‘‘stitching’’ of multiplefields together using interferometric control, which canbe performed with an accuracy of typically 10–50 nm.For waveguides operating in the relatively fast lightregime around ng = 5, stitching errors of this magnitudeonly have a limited impact on the performance, and wetypically achieve losses on the order of 10 dB/cm [22],compared to the 4 dB/cm we have reported for deviceswritten on a high-end machine with a writefield of1.2 mm [23]. In the slow light regime, however, due tothe enhanced light-matter interaction, the optical modebecomes much more sensitive to imperfections and thestitching errors have a much stronger impact, as we willshow below.

دانلود رایگان مقاله انگلیسی

خرید ترجمه فارسی مقاله با فرمت ورد

خرید نسخه پاورپوینت این مقاله جهت ارائه

نوشته دانلود ترجمه مقاله انتشار موج برهای کریستالهای فوتونی نورکند در شاخص گروهی – نشریه الزویر اولین بار در ترجمه فا پدیدار شد.