| دانلود رایگان مقاله انگلیسی + خرید ترجمه فارسی
|
|
| عنوان فارسی مقاله: |
کنترل بازخورد آماری یک فرایند اچ پلاسما |
| عنوان انگلیسی مقاله: |
Statistical Feedback Control of a Plasma Etch Process |
|
|
| مشخصات مقاله انگلیسی (PDF) | |
| سال انتشار | 1994 |
| تعداد صفحات مقاله انگلیسی | 11 صفحه با فرمت pdf |
| رشته های مرتبط با این مقاله | شیمی و مهندسی صنایع |
| گرایش های مرتبط با این مقاله | شیمی پلیمر، شیمی کاربردی و بهینه سازی سیستم ها |
| مجله | یافته های بدست آمده در زمینه تولید نیمه هادی |
| دانشگاه | آزمایشگاه نیروی هوایی رایت و تکنولوژی میکرو الکترونیک DARPA |
| شناسه شاپا یا ISSN | ISSN 1558-2345 |
| رفرنس | دارد |
| لینک مقاله در سایت مرجع | لینک این مقاله در سایت IEEE |
| نشریه | IEEE |
| مشخصات و وضعیت ترجمه فارسی این مقاله (Word) | |
| تعداد صفحات ترجمه تایپ شده با فرمت ورد با قابلیت ویرایش و فونت 14 B Nazanin | 28 صفحه |
| ترجمه عناوین تصاویر و جداول | ترجمه شده است |
| ترجمه متون داخل تصاویر | ترجمه شده است |
| ترجمه متون داخل جداول | ترجمه شده است |
| ترجمه ضمیمه | ترجمه شده است |
| ترجمه پاورقی | ترجمه نشده است |
| درج تصاویر در فایل ترجمه | درج شده است |
| درج جداول در فایل ترجمه | درج شده است |
| درج فرمولها و محاسبات در فایل ترجمه به صورت عکس | درج شده است |
- فهرست مطالب:
چکیده
۱.پیشگفتار
۲.سناریوها و مدل‌های تجهیزات
راه اندازی آزمایشی
واکنش‌ها و روش‌های سنجش (یا اندازه‌گیری)
مدلبندی تجهیزات
۳.استراتژی کنترل
مدل مبتنی بر SQC و الگوی سازگاری
۴.آزمایش‌ها و نتایج
آزمایشات تایید SPC
نتایج
۵.نتیجه‌گیری
ضمیمه‌ی
- بخشی از ترجمه:
۵.نتیجه‌گیری
در این مقاله، مفاهیم کلی و جرئیات خاص عملیات یک فرایند اچ پلاسما (یا خون) تحت نحوه‌ی عمل کنترل فرایند نشان داده شده است. این حالت (یا نحوه) به اپراتور امکان تعریف فرایند را نه تنها از نظر تنظیمات کنترل بلکه از نظر الزامات همه‌ی مشاهده‌پذیر‌های اندازه‌گیری شده می‌دهد. با حسگرهای موجود برای اندازه‌گیری وضعیتی این مشاهده‌پذیرها، یک روند SQC برای نظارت مقادیر (واقعی پیش‌بینی شده‌ی) این مشاهده پذیرها توسعه یافته است. هنگامی که از روش‌های SQC مشخص می‌شود که انحراف از نتیجه‌ی پیش‌بینی شده از نظر آماری قابل توجه است، مقدار جمله‌ی ثابت مدل فرایند/تجهیزات، در مدل فرایند چندجمله‌ای اصلی برروزرسانی می‌شود. یک بهینه‌ساز سپس به طور خودکار، فرایند را مجددا تنظیم می‌کند، و دستورالعمل جدید را فراهم می‌کند که آخرین حالت تجهیزات را فرا می‌گیرد و همه‌ی مشاهده‌پذیرها را در نظر می‌گیرد، به طوری‌که همه‌ی آن‌ها را با هدف در مقادیر هدف مربوطه‌شان حفظ می‌کند.
- بخشی از مقاله انگلیسی:
V. CONCLUSION
This paper has demonstrated the general concepts, and the specific details, of operating a plasma etch process under the process control mode of operation. This mode allows the Operator to define the process not in terms of the control settings, but in terms of the requirements of all the measured observables. With sensors available for the insitu measurement of these observables, an SQC procedure has been developed to monitor the (actual-predicted) values of these observables. When it is determined from SQC methods that the deviation from the anticipated result is statistically significant, the value of the constant term of the process/equipment model is updated in the original polynomial process model. An optimizer then automatically re-tunes the process, and provides a new recipe that comprehends the latest equipment state and considers all the observables, so as to keep all of them aimed at their respective target values.
| دانلود رایگان مقاله انگلیسی + خرید ترجمه فارسی
|
|
| عنوان فارسی مقاله: |
کنترل بازخورد آماری یک فرایند اچ پلاسما |
| عنوان انگلیسی مقاله: |
Statistical Feedback Control of a Plasma Etch Process |
|
|