دانلود ترجمه مقاله اتصال هالوژن: حفره سیگما – نشریه اسپرینگر

springer4

گروه آموزشی ترجمه فا اقدام به ارائه ترجمه مقاله با موضوع ” اتصال هالوژن: حفره سیگما ” در قالب فایل ورد نموده است که شما عزیزان میتوانید پس از دانلود رایگان مقاله انگلیسی و نیز مطالعه نمونه ترجمه و سایر مشخصات، ترجمه را خریداری نمایید.

 

دانلود رایگان مقاله انگلیسی + خرید ترجمه فارسی

 

عنوان فارسی مقاله:

پیوند هالوژنی: حفره سیگما

عنوان انگلیسی مقاله:

Halogen bonding: the σ-hole

  • برای دانلود رایگان مقاله انگلیسی با فرمت pdf بر روی عنوان انگلیسی مقاله کلیک نمایید.
  • برای خرید و دانلود ترجمه فارسی آماده با فرمت ورد، روی عنوان فارسی مقاله کلیک کنید.

 

مشخصات مقاله انگلیسی (PDF)
سال انتشار مقاله ۲۰۰۷
تعداد صفحات مقاله انگلیسی ۶ صفحه با فرمت pdf
رشته های مرتبط با این مقاله شیمی
گرایش های مرتبط با این مقاله شیمی محض
مجله مربوطه مجله مدل سازی مولکولی – Journal of Molecular Modeling
دانشگاه تهیه کننده گروه شیمی، دانشگاه نیواورلئان، ایالات متحده آمریکا
کلمات کلیدی این مقاله پیوند هالوژن، حفره سیگما، پتانسیل الکترواستاتیک، DFT
رفرنس دارد
شناسه شاپا یا ISSN ISSN ۰۹۴۸-۵۰۲۳
لینک مقاله در سایت مرجع لینک این مقاله در سایت Springer
نشریه اسپرینگر springer3

 

مشخصات و وضعیت ترجمه فارسی این مقاله (Word)
تعداد صفحات ترجمه تایپ شده با فرمت ورد با قابلیت ویرایش و فونت ۱۴ B Nazanin ۸ صفحه
ترجمه عناوین تصاویر و جداول ترجمه شده است
ترجمه متون داخل تصاویر ترجمه نشده است
ترجمه متون داخل جداول ترجمه نشده است
درج تصاویر در فایل ترجمه درج شده است
درج جداول در فایل ترجمه درج شده است
درج فرمولها و محاسبات در فایل ترجمه به صورت عکس درج شده است

 


  • فهرست مطالب:

 

چکیده

مقدمه

پتانسیل الکتروستاتیک و پیوند هالوژنی

حفره سیگما

خلاصه

 


  • بخشی از ترجمه:

 

خلاصه
پیوندهای هالوژنی شامل پیوندهایی هستند که در آنها اتمهای ید، برم و گاهی نیز کلر در مولکولهایی با گروههای الکترون کشنده استخلاف شده اند. سه جفت الکترون غیرپیوندی اتم هالوژن X یک کمربند با پتانسیل الکتروستاتیک منفی حول ناحیه مرکزی اتم و یک حفره سیگما در بیرونی ترین بخش سطح اتم حول محور R – X تشکیل میدهند. این حفره سیگما میتواند با نواحی منفی برهمکنش کند و پیوند هالوژنی را تقویت کند. اگر قدرت الکترون کشندگی اتم X از بقیه اتمهای مولکول بیشتر باشد در اینصورت اتم هالوژن میتواند بار الکترونی کافی را برای خنثی سازی حفره سیگما در اختیار این ناحیه قرار دهد . این نتیجه با هیبریداسیون sp الکترونهای غیرپیوندی لایۀ والانس s اتم X تقویت میشود . هردو فاکتور وقتی X = Fباشد کاربرد زیادی دارند و این مطلب میتواند توضیح دهد که چرا فلوئور در پیوند هالوژنی مشارکت نمیکند.

 


  • بخشی از مقاله انگلیسی:

 

Summary

Halogen bonding involves iodine, bromine and sometimes chlorine, typically substituted in molecular environments that are electron-withdrawing. The three pairs of unshared electrons on the halogen atom X form a belt of negative electrostatic potential around its central region, leaving a positive “σ-hole” on the outermost portion of its surface, centered around the R–X axis. This σ-hole can interact favorably with negative sites on other molecules, giving rise to halogen bonding. If the electron-attracting power of X is greater than that of the remainder of its molecule (R), then the halogen atom may gain enough electronic charge to neutralize the σ-hole.This result is also promoted by sp-hybridization of the unshared s-valence electrons of X. Both factors are operative when X = F, which explains why fluorine does not participate in halogen bonding.

 


 

 

تصویری از مقاله ترجمه و تایپ شده در نرم افزار ورد

 

 

دانلود رایگان مقاله انگلیسی + خرید ترجمه فارسی

 

عنوان فارسی مقاله:

پیوند هالوژنی: حفره سیگما

عنوان انگلیسی مقاله:

Halogen bonding: the σ-hole

  • برای دانلود رایگان مقاله انگلیسی با فرمت pdf بر روی عنوان انگلیسی مقاله کلیک نمایید.
  • برای خرید و دانلود ترجمه فارسی آماده با فرمت ورد، روی عنوان فارسی مقاله کلیک کنید.

 

دانلود رایگان مقاله انگلیسی          خرید ترجمه فارسی مقاله

ارسال دیدگاه

نشانی ایمیل شما منتشر نخواهد شد. بخش‌های موردنیاز علامت‌گذاری شده‌اند *